Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Эксперименты с передовым оборудованием ASML, обладающим высокой числовой апертурой (High-NA), корпорация Intel ведёт с 2024 года, но до сих пор она не была уверена, когда именно его нужно начинать применять в условиях массового производства. Поставщик этого оборудования заявил, что технически это уже происходит при выпуске некоторой части мобильных процессоров Panther Lake.

Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Репортаж с IEM Cologne Major 2026: Жаб Жабыч, триумф NiKo и главные сенсации мейджора по CS2

Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Выбираем лучший игровой ноутбук до 100 000 рублей: сравнительное тестирование 7 интересных моделей

Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Обзор Ryzen 9 9950X3D2: правильный 16-ядерник с 3D-кешем

Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Умные помощники: обзор ИИ-сервисов для обработки изображений. Часть 2, актуализированная

Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Обзор Infinix GT 50 Pro: геймерский смартфон со встроенной СЖО

Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров

Напомним, последние производятся по новейшей технологии Intel 18A, но сама по себе она не требует использования EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA). Компания Intel, как считается, действительно начинала экспериментировать с таким литографическим оборудованием ещё в рамках технологии Intel 18A, но в условиях массового производства собиралась применять его уже после освоения более «тонких» техпроцессов.

Как отмечает Reuters со ссылкой на комментарии представителей ASML, в действительности Intel уже пробует производить некоторую часть мобильных процессоров Panther Lake с использованием указанного оборудования. Один такой сканер стоит более $400 млн, поэтому масштабы его применения сложно назвать серьёзными, но для Intel важно понять, какие нюансы возникают при массовом производстве чипов на новом оборудовании. Как обычно в таких случаях, новая технология применяется для обработки только избранных слоёв чипа. Цель подобного эксперимента — получить практический опыт, который поможет Intel и ASML оптимизировать дальнейшее использование нового типа оборудования в массовом производстве чипов. Расширить применение High-NA EUV компания Intel должна на этапе освоения техпроцесса 14A, которое намечено на 2027 год. Конкурирующая TSMC данной темой тоже интересуется, но пока считает профильное оборудование слишком дорогим для внедрения на производстве.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *